溅射原子在基片外面堆积成膜。与蒸发镀膜分歧，溅射镀膜不受膜材熔点的限定,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物资。溅射化合物膜可用反响溅射法，行将反响气体份子束内涵法普遍用于制作各类光集成器件和各类超晶格布局薄膜。
(O、N、HS、CH等)参加Ar气中,反响气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反响天生化合物（如氧化物、氮化物等）而堆积在基片上。
光学镀膜光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。这些涂层可以显着改变光学元件的达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。光学涂层可以直接应用于光学元件的表面、以调整其反射率等。除此外可以利用材料的特性与多个膜层的配合作用可以达到很多特殊效果。可见有镀膜的玻璃会增加透光度。此外由此公式，我们可以计算光线穿透镜片的两面，发现即使一片的透镜（折射率1.8）
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