溅射原子在基片外面堆积成膜。与蒸发镀膜分歧，溅射镀膜不受膜材熔点的限定,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物资。溅射化合物膜可用反响溅射法，行将反响气体份子束内涵法普遍用于制作各类光集成器件和各类超晶格布局薄膜。
(O、N、HS、CH等)参加Ar气中,反响气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反响天生化合物（如氧化物、氮化物等）而堆积在基片上。
光学镀膜的特点是:表面光滑，膜层之间的界面是几何划分的，膜层在界面上的折射率可以发生跳跃，但在膜层是连续的，可以是透明介质，也可以是光学镀膜。用物理或化学方法涂覆单层或多层透明介质涂层，可在涂层表面涂覆，使下表面干涉相位变长或消除，使反射光增强或减弱，实现反射或反射。反光膜在现代被广泛使用。高反射镜是在玻璃基板上多层镀膜而成的多层膜系统。基于反射增强和反射增强原理的高反射率多层光学涂层广泛应用于激光器、激光陀螺和波分复用技术。
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