与PVD相比，ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。
基于丰富的经验和软件，Beneq可根据您的要求针对性地设计ALD膜层结构，以此获得的光学性能。
硅结构测试在硅结构测试中沉积保形的ALD薄膜堆层稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求，典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同，ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面，都是理想的镀膜解决方案。 ALD工艺技术满足了在复杂3D结构表面均匀沉积薄膜的高保形性。这为任意形状的光学器件、球型透镜、光栅等应用提供了成熟可靠的镀膜方案。将等离子体增强原子层沉积（PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。
在线客服
13622670025
huren06@163.com