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海南电镀AF-电镀AF供应-东莞仁睿电子(多图)

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夹具绕公共轴旋转，同时绕其自身轴旋转。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部，驱动轴遮挡晶控。背面的大开口通向附加的高真空泵。基底加热系统由4个石英灯组成，真空室的两边各两个。对于光学薄膜，填充密度通常为0.75～1.0，部分为0.85～0.95，很少达到1.0。小于l的填充密度使所蒸发材料的折射率低于其块料的折射率。








如果从一个介质传递到另一个介质且折射率较低的光线的入射角大于由两种折射率的比值定义的材料临界角 (θC)，则会发生全反射，光线将完全反射（图 4）。入射角等于临界角时，折射角等于 90°。两种光介质界面的透射和反射的振幅系数由菲涅耳透射和反射方程决定: 3

(5)ts=2n1cosθ1n1cosθ1+n2cosθ2ts=2n1cos⁡θ1n1cos⁡θ1+n2cos⁡θ2

(6)rs=n1cosθ1−n2cosθ2n1cosθ1+n2cosθ2rs=n1cos⁡θ1−n2cos⁡θ2n1cos⁡θ1+n2cos⁡θ2



光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层 吸收介质:可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的,实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多,这是因为,制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,膜层之间的相互渗透形成扩散界面,由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性,膜层具有复杂的时间效应.形成了薄膜的各向异性,膜层具有复杂的时间效应.

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