仁睿电子科技(图)-玻璃光学镀膜价钱-企石玻璃光学镀膜
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稳定的光学性能要求高度均匀性的薄膜材料。根据光学性能要求，典型的膜层厚度均匀性要求在1%左右。与PVD不同，ALD镀膜无论对于纳米结构的微观层面或任意形状光学器件的宏观层面，都是理想的镀膜解决方案。由于ALD通过饱和化学反应形成单一膜层，因此您可以原子级精度调整光学材料特性。这为工业量产化提供了出色的可重复性且能有效地控制膜层厚度。
与PVD相比，ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。将等离子体增强原子层沉积（PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。
汽化相对温和的性质会生成松散或多孔的镀膜。这些松散的镀膜存在吸水问题，这会改变层的有效折射率并导致性能下降。蒸发沉积过程中不能控制蒸发，因此不能像使用离子束溅射等其他技术那样控制层厚度。不过，这些松散的镀膜的优点是它们相对来说没有压力。使用离子束辅助沉积（IBAD 或 IAD）可以增强蒸发镀膜，离子束直接作用于基片表面，增加源材料与表面的粘附能量，并生成更致密、更坚固的镀膜。
与PVD相比，ALD的沉积率通常较低。但ALD制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。Beneq P400A 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。将等离子体增强原子层沉积（PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 PEALD 应用于大批量生产。
汽化相对温和的性质会生成松散或多孔的镀膜。这些松散的镀膜存在吸水问题，这会改变层的有效折射率并导致性能下降。蒸发沉积过程中不能控制蒸发，因此不能像使用离子束溅射等其他技术那样控制层厚度。不过，这些松散的镀膜的优点是它们相对来说没有压力。使用离子束辅助沉积（IBAD 或 IAD）可以增强蒸发镀膜，离子束直接作用于基片表面，增加源材料与表面的粘附能量，并生成更致密、更坚固的镀膜。
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