光学镀膜方法材料氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。
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光学镀膜已成为大部分光学产品不可或缺的一道工艺，薄膜通过干涉光的透过率、波段、折射率等参数来修正光学产品自身材质所带来的天然不足。镀膜的应用从日常的眼镜、手机相机、家电用品，到领域的相机镜头、仪器镜头，一些防伪技术等。近代光电、通讯、镭射等技术也是基于光学镀膜技术为基础才能发展到水平。镀膜技术发展到现在阶段，决定镀膜成败的往往是基材自身的洁净程度以及前后工序对材料整体的影响，例如基材带油墨进行镀膜。所以镀膜前对基材的清洗就显得尤为关键。护目镜雾化
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