光学镀膜方法材料氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。氧化锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。
AF处理光学薄膜系指在光学元件或独立基板上，制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合，以改变光波之传递特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。磨砂和af膜的共同点就是在防反光上面都不让伯仲，一种是磨砂的折射效果产生防反光功能，一种是空间架构，折射光线起到防反光效果。主要是通过真空镀膜的技术将有机---物材料沉积到基材上，使基材表面不仅具备较高的透过率而且还具有防水、防油、防指纹、防污染等功能应用：各---手机面板镀膜。AF处理
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