真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，光学镀膜加工厂，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
与链条式传送机构相比，广东光学镀膜，该机构为刚性传送，不存在齿合不准确问题同时，由于需要的过渡空间小，可以节约真空室之间阀门的开关时间、进一步减少不同真空室之间的气氛互串。因而极大的提高了镀膜工艺稳定可靠性、成品率，降低能耗和成本等。
随着镀膜技术的发展，各类真空镀膜机也逐渐出现，不管是哪种真空镀膜机，薄膜的均匀性都会受到一些因素的影响。现在，我们就以磁溅射真空镀膜机来分析成膜不均匀的因素。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。在可见光和红外线波段范围内，光学镀膜价格，大多数金属的反射率都可达到78%~98%，但不可高于98%。
镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
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