真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，手机壳光学镀膜厂家，一般称为干式镀膜技能。
真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。
物理气相堆积技能是指在真空条件下，使用各种物理办法，手机壳光学镀膜哪家好，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体外表上的办法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积办法制得，它使用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或受到离子轰击时物质外表原子的溅射等现象，完成物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。
光学镀膜基本原理
光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，天津手机壳光学镀膜，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展，手机壳光学镀膜加工，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。
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