真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。

真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。

物理气相堆积技能是指在真空条件下，使用各种物理办法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体外表上的办法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积办法制得，它使用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或受到离子轰击时物质外表原子的溅射等现象，完成物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。

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光学镀膜工艺

在沉积过程中，每一层的厚度均由光学或石英晶体监控。这两种技术各有优缺点，山东工艺品渐变加工，这里不作讨论。其共同点是材料蒸发时它们均在真空中使用，因而，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。薄膜吸收的潮气取代微孔和空隙，工艺品渐变加工成品，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不变，这种折射率升高伴有相应的光学厚度的增加，反过来造成薄膜光谱特性向长波方向的漂移。为了减小由膜层内微孔的体积和数量所引起的这种光谱漂移，采用高能离子以将其动量传递给正在蒸发的材料原子，从而大大增加材料原子在基底表面处凝结期间的迁移率。

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光学镀膜工艺　　

光学镀膜所涉及的制造工艺是劳动和资本密集型的，并且十分耗时。影响镀膜成本的因素包括被镀膜的光学件的数量，类型，尺寸，工艺品渐变加工报价，需要镀多少层膜以及光学件上需要镀膜的表面数量。镀膜采用的沉积工艺对镀膜成本以及镀膜性能方面的影响也十分巨大。此外，在这之前还需要做大量的准备工作，以确保每个镀膜光学件的质量都能达到z高水平。

在镀膜之前，清洁和准备光学件是非常重要的。光学元件必须具有适合镀膜粘附的清洁表面。一旦镀上膜，基片上未预先除去的污渍就很难被去除了。