真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。
真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。
物理气相堆积技能是指在真空条件下，使用各种物理办法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，办公用品渐变成品，直接堆积到基体外表上的办法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积办法制得，办公用品渐变厂家，它使用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或受到离子轰击时物质外表原子的溅射等现象，完成物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。
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光学镀膜应用——镜头镀膜
化学镀膜法具有价格低，操作容易等优点，但也有相对污染较大，无法镀多层膜的缺点。新一代的镀膜技术改用物理方式，以真空蒸镀、离子镀等多种不同的形式进行。
物理镀膜的过程是在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质(膜材)部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，办公用品渐变，把蒸发物或其反应物沉淀积在被镀基片表面的过程。物理镀膜的强度和均匀性普遍高于化学镀膜，而且重要的是物理镀膜可以进行多层镀膜，而化学镀膜受限于其工作原理基本只能实现单层镀膜。
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