真空镀膜加工的办法许多：
（1）真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气到达约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，光学镀膜加工厂，凝结而成薄膜。
（2）化学气相堆积：经过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，光学镀膜加工，取得堆积薄膜的进程。
（3）离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。
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喷点形成的原因
镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因:
1、镀膜材料纯度不高，含杂质较多，预熔过程中无法将这些杂质去除，蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。
2、材料较为潮湿，预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化，在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。
3、镀膜前对材料进行预熔时不够充分，蒸镀过程中材料里的细小颗粒溅上工件表面形成喷点。
4、镀膜过程中，电子枪束流过大引起的材料飞溅产生的喷点。
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